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半导体清洗用超纯水设备的工艺流程
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- 发布时间：2018-05-22 00:00
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半导体清洗用超纯水设备的工艺流程
半导体清洗用超纯水设备的工艺流程
近年来，我国科学技术飞速发展，电子行业占主要部分，在电子行业中，半导体同样占着重要位置，半导体清洗用超纯水设备出水水质稳定并且设备运行可靠。
半导体清洗用超纯水设备的工艺说明
半导体清洗用超纯水的水质也要有严格要求，设备可以稳定运行。原水经过原水泵的加压，使水进入一级预处理系统中，来去除水中的铁锈等有机物质，接下来进入二级预处理设备中，来去除余氯有一些色度，接下来再经过第三级预处理，来对水的硬度进行去除，保安过滤器再次对水进行净化处理，再经过反渗透和EDI来去除水中多余的杂质，最后经过微孔过滤器来对水进行深度处理。使水达到用水要求。
半导体行业用超纯水的标准
半导体行业要遵循我国电子工业的相关标准，并且还要达到一些国外的水质标准等。目前，很多水处理厂商都未能达到标准，我公司超纯水设备出水水质均可达到这些标准，并且水质稳定，不会造成二次污染等。
半导体清洗用超纯水设备采用最新工艺，可实现无人看守等特点，设备占地面积小，自动化程度高，并且水质稳定，最高可达18.2兆，并且超纯水设备的废水回收率高，可达80%到90%以上。
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